keith.wang@nano-sepmer.com    +8619818516819
Cont

Gen nenpòt kesyon?

+8619818516819

Segondè presyon osmoz ranvèse

Segondè presyon osmoz ranvèse

Karakteristik manbràn: segondè rezistans presyon
Materyèl manbràn: manbràn konpoze polyamid
Kalite anbalaj ekstèn: vèr
Feed spacer tip: plat koule kanal 31mil/34mil/46mil, elatriye.
Voye rechèch

Pwodwi Entwodiksyon

Manbràn osmoz ranvèse espesyalize pou aplikasyon pou dlo rekipere

 

Deskripsyon Product

 

  • Karakteristik manbràn: segondè rezistans presyon
  • Materyèl manbràn: manbràn konpoze polyamid
  • Kalite anbalaj ekstèn: vèr
  • Feed spacer tip: plat koule kanal 31mil/34mil/46mil, elatriye.
  • Senaryo aplikasyon: dlo ize endistriyèl réutilisation, minisipal récupération dlo réutilisation, gwo konsantrasyon dlo ize sèl, etc.

 

Karakteristik pwodwi

 

  • Se fèy manbràn enpòte a konbine avèk pwòp patant modifye pou elimine defo mikwo yo sou sifas manbràn an, amelyore pèfòmans anti-fouling la, epi balanse pèfòmans to flux ak retansyon an pi bon;
  • Konsepsyon chanèl koule paralèl louvri, pa gen netwayaj zòn mouri, mwens dekale, pèfòmans rekiperasyon ekselan;
  • Avèk rezistans fò asid ak alkali, estabilite chimik li yo amelyore anpil konpare ak manbràn RO tradisyonèl yo;
  • Li gen kondisyon pretretman ki ba, pèmèt pi wo COD ak SS aflu, epi li gen ekselan pèfòmans anti-polisyon.

 

Paramèt pèfòmans pwodwi

 

modèl

ROP50-8040/31FA

ROP70-8040/34FA

ROP90-8040/46FA

Fonksyon

Resiklaj

Konsantre

Trè konsantre

Zòn manbràn (ft2/m2)

376(35)±3%

365(34)±3%

300(27)±3%

Koule pèmeyatè (GPD/m3d)

10500(40)±15%

9500(36)±15%

7600(30)±15%

rejè sèl (%)

99.5% (minimòm 99.0%)

Presyon opere (ba)

10-50

40-80

60-120

Maksimòm tanperati opere (degre)

Mwens pase oswa egal a 45

Diferans presyon sèl manbràn (psi / bar)

15(1.0)

Operasyon nòmal pH

2-10

Presyon netwayaj (psi/bar)

75-100/5.2-6.9

Tolerans klò rezidyèl (ppm)

Mwens pase oswa egal a 0.1

Maksimòm flo SDI

Mwens pase oswa egal a 5

Maksimòm pousantaj koule (gpm/m³·h)

Mwens pase oswa egal a 70 (15.9)

 

Paramèt gwosè pwodwi

 

(1) Fen plat

image007

Gwosè eleman manbràn

A (± 2.0mm)

B (±0.1mm)

C (± 0.5mm)

8040

1016

28.8

200

 

(2) Fen ki vle pèse anvlòp

image009

Gwosè eleman manbràn

A (± 2.0mm)

B (±0.1mm)

C (± 0.5mm)

D (± 0.1mm)

2540

1016

30.2

19.1

61

4040

1016

26.7

19.1

100

 

Sou nou

 

6 Ane Ekspètiz
Nan solisyon entegre

Hangzhou Nanoimp anviwònman teknoloji co, Ltd. etabli an 2019 ak biwo santral li nan Hangzhou, Lachin, espesyalize nan rechèch, fabrikasyon, ak inovasyon nan manbràn separasyon avanse. Konpayi an angaje nan bay solisyon entegre pou separasyon materyèl ak rekiperasyon resous dlo ize.

 

Nanoimp te etabli filiales endepandan, ak Foshan Branch ki espesyalize nan pwodiksyon ekipman pou pirifye dlo piblik ak Haining Branch konsantre sou manifakti PTFE MBR pwodwi yo.

1
 
40+
Patant yo posede
100,000+
Kapasite Pwodiksyon Anyèl
7/72
Jou livrezon estanda/ijan
NANO-SEPTEM 
Patnè otorize eksklizif
2
3
4
5

 

Baj popilè: segondè presyon ranvèse osmoz, Lachin segondè presyon ranvèse osmoz manifaktirè, Swèd, faktori

Voye rechèch

(0/10)

clearall